在半导体材料制造加工过程中，概念就是种单晶硅硅生长发育技術的CVD。其原因是借助特气系统软件中特气pvc管道和电子厂特气柜等特气系统，将含硅的珍禽气休（SiH4 或SiCI4或SiH2CI2等）安全可靠比较稳定的推送过来低温(> 1100℃)的衬底上借助氢（H2）在衬底上凭借完美重现影响析晶单晶硅硅硅的措施。

外延工艺的优点：

①　可以减少串接电阻功率；②　可能操控外加层中的沉渣划分；③　可不可以用中任何盐浓度和导电类形的硅衬底上认为的是故意地实行添加，以够满足元器件花式比较多的追求。

外延设备及所用的气体:

耐腐蚀色谱本质发育用到的机械设备装置设备通常情况下而言誉为本质发育发生影响炉。通常情况下首要由色谱掌控设备性、电子为了满足电子时代发展的需求，掌控设备性、发生影响炉要素、排气口设备性四一些主成。

在半导体外延工艺中，气体控制系统指的就是超高纯电子特气系统，以下简称特气系统。特气系统以耐腐蚀的EP管、气体泄漏监测报警系统、高精度的质量流量计以及特气设备如拥有SEMI S2认证和自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断等功能的电子特气柜，来保证外延生长工艺中特种气体的安全稳定输送。

总而言之指出，特气平台中智能电子特气柜为半导本质发芽加工制作工艺 提供了应急相对稳定的混合气体钢筋取样料（如硅烷和二氯二氢硅等），保护的生产加工的应急包括的生产加工率和良品率。最终，感激您的浏览！