在半导体芯片加工制作工艺 加工制作工艺 中，外延性是一种种多晶硅生长发育技术水平的CVD。其基本原理是根据特气机 中特气排水管和智能电子特气柜等特气机 ，将含硅的机械的气体（SiH4 或SiCI4或SiH2CI2等）健康稳定性的气流输邮到常温(> 1100℃)的衬底上根据氢（H2）在衬底上实现还原故宫场景反應挥发多晶硅硅的工艺。

外延工艺的优点：

①　避免结合功率电阻；②　能否操控外加层中的悬浮物分布图制作；③　就可以用多个质量浓度和导电型号的硅衬底上认为的蓄意地实施夹杂着，以足够电子器件花祥许多的请求。

外延设备及所用的气体:

化学式气质联用外加性生長期使用的的仪器传动装置通畅称作外加性生長期发应炉。通常情况通常由气质联用调控设计、电子技术调控设计、发应炉客体、排气口设计四要素分为。

在半导体外延工艺中，气体控制系统指的就是超高纯电子特气系统，以下简称特气系统。特气系统以耐腐蚀的EP管、气体泄漏监测报警系统、高精度的质量流量计以及特气设备如拥有SEMI S2认证和自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断等功能的电子特气柜，来保证外延生长工艺中特种气体的安全稳定输送。

与此同时所写，特气平台中电子厂特气柜为半导体器件外延性衍生技艺供应安全保障保障稳定性的乙炔气钢筋取样料（如硅烷和二氯二氢硅等），保持研发的安全保障保障各种研发率和良品率。之后，表示感谢你们的浏览！