三氟化氮（NF3），在光微电子技术厂器件实业中是种优异的等化合物蚀刻气物，随納米技巧和微电子技术厂器件实业的极速进展，其实际必须量也在亟须增大。高纯三氟化氮（NF3）应属微电子技术厂器件特气，渗透性有较强，女性身体马上沾染会产生特别大的危害性，在这时，便必须微电子技术厂器件特气柜那么的重型气物装置来有保障气物的色度和操作安全卫生。

一些 是三氟化氮？

三氟化氮（nitrogen trifluoride）分子式式NF₃，在普通下就是种无色透明的、无臭、类型动态平衡的其他甲烷气休，就是种强钝化剂。NF3是低毒副作用化合物，可是它能很强烈促进眼腈、皮夫和气息道黏膜，锈蚀组建，的研究显示：大鼠吸进1000ppm·l每小的时候末见窒息死掉者，但产生高铁新城猩红球蛋白血症，当吸进10000ppm·l每小的时候有窒息死掉者，在2500ppm时涉毒后4每小的时候窒息死掉者。要得知在光电材料器件服务行业刻蚀生产工艺中，所适用的NF3是会自动储存在其他甲烷气休气瓶中的高饱和度缩减其他甲烷气休。

三氟化氮的应用领域：

高纯三氟化氮（NF3）兼备至关积极的蚀刻传输速度和会抑制性（对氧化物硅和硅），它在被蚀刻物接触面无某些残余物，一起是至关积极的除垢剂。三氟化氮主耍用在化学上的色谱淀积（CVD）设施的除垢，一起在集成电路芯片制造出、震撼皮秒激光器角度得以了广泛的运行。三氟化氮行独立或与某些废气组合式，看做等氧化物体工艺设备的蚀刻废气，举例子，NF3、NF3/Ar、NF3/He中用硅氧化物MoSi2的蚀刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既中用MoSi2的蚀刻，也中用NbSi2的蚀刻。

电子特气柜的功能作用：

微电子特气柜是专为易燃物易爆、致癌性、氧化性等有风险性性废气产生而设计方案的独特的废气控制系统主设备，按专业类别可也包括全电脑系统系统手动、半电脑系统系统手动和人工操作流程操作流程，有也包括电脑系统系统手动吹扫、电脑系统系统手动修改并且 及时现状下的电脑系统系统手动平安切断所有设备的电源（当因素告警预警被重置时）等一般功能模块。

其中全自动电子特气柜采用PLC为控制主体，以触摸屏进行系统显示和设定，配合合理设计布局的高纯阀件及气体监测泄漏报警系统等，可保持气体的安全稳定及高纯度，保证实验或生产正常进行。

综上，三氟化氮（NF3）是微电子行业中一种优良的等离子刻蚀气体，是一种对人体有很大危险性的电子特气，电子特气柜的作用是可以保证三氟化氮（NF3）气体的运输安全、使用安全、气体的纯度和提供连续稳定的气体压力。感谢您的阅读！