什么是高纯气体管道配管技术？所谓的高纯气体配管技术，是包括高纯供气系统的正确设计、阀门管件及附件的合理选择、管道施工、安装试验和测试等；是高纯气体供应系统的重要组成部分；是保证高纯气体安全稳定的输送到用气点，且符合设备使用要求的关键技术。

高纯气体管道工程应用领域

高纯气物管道网系统软件公程都有着能要确保气物的饱和度、要确保条件气物2g流量、压力值稳定性高和量值传承不發生变换等优点和缺点，非常广泛应运于半导体设备、模块化控制电路、光电材料、车辆、新能量、納米、网络光纤、微自动化、国际石化工业厂、生物体生物制药、各个验室室、教学科研研究探讨所、条件试验等高科持服务行业。

常见气体种类：

在電子重工业生产中一般的其他有机废气的有机废气实验室气体，也称大综其他有机废气的有机废气实验室气体(Bulkgas)：氯气(H2)、氢气(N2)、纯氧(O2)、氢气(A2)等；除一般的其他有机废气气身体之外，電子重工业生产也会用得上更多的高纯珍禽其他有机废气的有机废气实验室气体(Specialty gas )，如：SiIH4、PH3、B2H6、CL、HCL、CF4、POCL3、BCL3、SIF4、CLF3、C2F6、N2O这一些。这一些特有其他有机废气的有机废气实验室气体依据其他有机废气的有机废气实验室气体本质，种类大部分可为氧化性、毒素、易燃物性、助燃性、惰性等。

常用半导体气体分类如下:

（一）酸性性/致癌性: HI、BF3、WF6、HBr、SiH2C2、NH3、PH3、C12、BCI3等（二）可燃性: CH4、SiH4、PH3、AsH3、SIH2CI2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO等（三）助燃性: O2、C12、N2O、W3等（四）惰性: CF4、C2F6、C4F8、SF6、CO2、Ne、Kr、He等

半导体器件业业中适用的电子器材独特的其他乙炔气，诸多全都是对人体本身有毒。表示动作的词，半导体器件业生产方法方法最应见的独特的其他乙炔气：硅烷（SiH4）就具备爆燃基本特征，若是会发生漏泄，其也就会与空气质量中的空气中的氧气巨烈反应迟钝并开启丙烷燃烧。再表示动作的词磷烷（PH3）和坤烷（AsH3）也具备低毒性，任何人轻度的漏泄都有可能对人的寿命从而造成伤害值。也正是根据以下显著的的危险区，那么而对于高纯其他乙炔气厂家直销体系设汁的平安性规范要求十分高。

以上，便是关于高纯气体配管技术及电子工业中常见的气体种类的简单介绍，感谢您的阅读！