在反应室里，气态反应物经化学反应生成固态物质并沉积在硅片表面的薄膜沉积技术，被称为CVD（化学气相沉积）。它有一个基本特征：CVD工艺中反应物必须以气相形式参与反应，配置特气柜的好处就体现在这上面。

气物的传送数据就还要运用气路系統，而这个含透明膜组成部分原子结构气物绝大多数是重型气物，极具必定的危险的性，如SiNx透明膜，常做为一体化电路板系統后来的钝化保护英文层，提生一体化电路板系統的安全可靠性设计，故而，还要选取特气系統，配制特气柜。

CVD设置特气柜的优势：

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