CVD（耐腐蚀反应气质联用岩浆岩法）是过去的制作膜的的技术，在这当中PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 所指等正离子体增強耐腐蚀反应气质联用岩浆岩法，有主要温差低、岩浆岩数率快和溶胶凝胶法产品质量高等优点和缺点。PECVD的目的怎么样东西？特气柜采用怎么去？接着让你郑州杏彩体育网 科技创新的彩色哥来给朋友的介绍一点吧。

PECVD：是借助于徽波或rf射频等使有效透明膜组分水分子的有机废气甲烷气体电离，在整体生成等阳阴离子体，而等阳阴离子体化学工业活性氧挺强，很轻松突发反应迟钝，在基片上累积出所能够的透明膜，表中，特气系统化确定了有效透明膜组分水分子的有机废气甲烷气体的稳定性推送和纯净度需要。

成了使电学的表现能在较低的摄氏度下开展，根据等正阴离子体的几丁质酶来有利于促进的表现的电学色谱沉淀积累状法，由此被称作等正阴离子体改善电学色谱沉淀积累状(PECVD)。采用PECVD技木，在衬底摄氏度要保持为350℃差不多就会还可以得出的保持良好SiOx或SiNxbopp薄膜，就会一位非常好的的举例说明，是还可以是 智能家居控制型电路设计原理然后的钝化保护英文层，不断提高智能家居控制型电路设计原理的可靠性预计性。

组成氮化硅膜(Si3N4)，就SiNx膜的一项，由硅烷和氮不良反应组成的，而硅烷（SiH4）有的是项在在常温下能暴炸、在自然空气或卤化其他废气中可以爆炸案性燃燒的毒害性性独特的其他废气，特气柜的存有正是成了要确保硅烷例如其他废气的很安全适用。

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